Сейчас отечественные предприятия серийно выпускают микросхемы с топологией 300, 200, 130 и 90 нанометров. В условиях, когда поставки иностранных литографов и оборудования для травления пластин закрыты, государство делает ставку на создание собственных аппаратов. В прошлом году российские специалисты уже представили литограф на 350 нанометров, а к 2025 году планируют освоить уровень 130 нанометров.
По словам вице-премьера, это оборудование полностью автономно и не зависит от импортных компонентов. Однако переход к более тонким техпроцессам потребует длительного цикла разработок, так как отрасль вынуждена развивать микроэлектронное машиностроение практически с нуля.
Комментарии (0)
Пока нет комментариев. Будьте первым!